每款產(chǎn)品都不希望產(chǎn)品表面出現(xiàn)凹凸不平，坑坑洼洼的面部，所以對于硅膠制品的表面光潔度固然重要，硅膠制品模具拋光方式主要是降低模具鋼材表面的粗糙度，想要真正硅膠制品的表面光潔度還是需要從模具工藝上面著手，那么對于硅膠模具的表面光潔度工藝都有哪些處理方式呢？

　　模具拋光可分為多種工藝方式，在硅膠模具中運用不同的處理方法， 其中以下表面處理方法為常見工藝！

　　電解拋光：
　　電解拋光是靠選擇性的溶解材料表面微小凸出部分,使表面光滑。與化學(xué)拋光相比,可以消除陰極反應(yīng)的影響,效果較好。電化學(xué)拋 光過程分為兩步:

　　(1)宏觀整平溶解產(chǎn)物向電解液中擴散,材料表面幾何粗糙下降,Ra>1μm。
　　(2)微光平整陽極極化,表面光亮度提高,Ra<1μm。

　　機械拋光：
　　機械拋光是靠切削材料表面塑性變形去掉被拋光后的凸部而得到平滑面的拋光方法,一般使用油石條、羊毛輪、砂紙等,以手工操作 為主,特殊零件如回轉(zhuǎn)體表面,可使用轉(zhuǎn)臺等輔助工具,表面質(zhì)量要求高的可采用超精研拋的方法。超精研拋是采用特制的磨具,在含有磨 料的研拋液中,緊壓在工件被加工表面上,作高速旋轉(zhuǎn)運動。利用該技術(shù)可以達到Ra0.008μm的表面粗糙度,是各種拋光方法中高的。

　　超聲波拋光：
　　超聲波拋光是利用超聲波作為動力，推動細小的磨粒以的速度沖擊工件表面，迫使磨料對被加工表面進行加工，從而降低其表 面粗糙度的拋光方法。

　　流體拋光：
　　流體拋光是依靠高速流動的液體及其攜帶的磨粒沖刷工件表面達到拋光的目的。常用方法有:磨料噴射加工、液體噴射加工、流體 動力研磨等。流體動力研磨是由液壓驅(qū)動,使攜帶磨粒的液體介質(zhì)高速往復(fù)流過工件表面。介質(zhì)主要采用在較低壓力下流過性好的特殊 化合物并摻上磨料制成,磨料可采用碳化硅粉末。

　　磁研磨拋光：
　　磁研磨拋光是利用磁性磨料在磁場作用下形成磨料刷,對工件磨削加工。這種方法加工,質(zhì)量好,加工條件容易控制,工作條件 好。采用合適的磨料,表面粗糙度可以達到Ra0.1μm。

對硅膠制品生產(chǎn)廠家而言模具的拋光光潔度取決于產(chǎn)品的外觀質(zhì)量程度，所以拋光工藝相同是重要的一個工序，與其他行業(yè)拋光工藝不同，相對而言模具拋光也是提升硅橡膠制品的加工效率與產(chǎn)品的質(zhì)量等等，所以您購買的硅膠產(chǎn)品表面光潔度好不好正式取決于模具的拋光工藝做的好不好了！
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