鍍膜設備應該在高真空下工作，真空值的優(yōu)劣可以直接危害表層的鍍膜的質量。有時鍍膜設備的真空值抽不出來或是真空值不太好，可能是連接頭松脫或是有焊接發(fā)生脫焊。傳統(tǒng)式的氣密性試驗方式應該鍍膜設備關機，充氮，再在猜測有漏的位置涂上肥皂泡，整個過程用時費事極易錯判，針對微小的泄露沒法檢驗。諾益氦質譜檢漏儀運用氦氣做為示蹤氣體，小漏率低于5E-13Pam3/s，安全環(huán)保，檢漏時無需關機，立即在機械泵的旁通連接測漏儀便可以迅速有效的進行檢驗了。

對比幾個真空鍍膜機的檢漏方法：
氦質譜檢漏該工藝是真空鍍膜機真空檢漏技術里不可缺少的一種技術，因為檢漏率，簡單易使用，儀器設備反映靈敏，，不容易受別的氣體的影響，在檢漏中獲得了廣泛運用。氦質譜檢漏儀是依據(jù)質譜學基本原理，用氮氣作示漏氣體做成的氣密性檢測儀器。由離子源、解析器、回收器、冷陰極水解規(guī)構成的質譜分析室和吸氣系統(tǒng)及電氣一部分等構成。質譜分析室里的鎢絲發(fā)送出去的電子，在房間內(nèi)不停地震蕩，并與房間內(nèi)空氣和經(jīng)漏孔進入到屋內(nèi)的氦氣互相撞擊使其水解成共價鍵，這種氦離子在加快靜電場的作用下進入到磁場，因為洛倫茲力作用產(chǎn)生偏轉，產(chǎn)生圓弧狀軌道，更改加速電壓可使不一樣品質的離子通過磁場和接受縫抵達接收極而被檢驗。噴氦法、吸氦法是氦質譜檢漏儀在檢漏中經(jīng)常使用的這兩種方式。采用真空法檢漏，鍍膜機不需要停機，直接在真空泵的旁路利用波紋管接入檢漏儀，在懷疑有漏的地方噴氦氣，即可完成檢漏。

真空系統(tǒng)是鍍膜機達到工藝條件的基本設備，其真空度達不到或者達到真空度速度慢，都有可能是由于存在漏點所致，所以真空卷繞鍍膜機設備的真空系統(tǒng)需要定期真空檢漏。真空卷繞鍍膜機通常采用氦質檢漏儀來查漏，主要用負壓法檢漏即將氦質譜檢漏儀的檢漏口接入鍍膜機的真空系統(tǒng)，在可能泄漏地方噴氦檢漏。

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真空鍍膜機為什么會越來越慢這種情況有兩種可能
1、設備內(nèi)部由于長時間鍍膜導致有些臟東西在加熱時放氣，所以這種情況需要維護，即把內(nèi)部屏蔽板拆下噴砂或脫膜，清理。
2、由微小的滲漏，沒有發(fā)現(xiàn)，尤其是各個傳動部位密封，這種情況就是比較難查，如果沒有檢漏儀，就只能一部分一部分拆卸或用盲板逐步替換予以排除。也有人用注射針頭注射酒精觀察真空計的變化檢查，但一般漏的不大時不好判斷，至于你說的真空1.9的那個其實也并不高，還有就是漏率是按照你的設備體積以及單位時間的真空下降程度來算的不是按照真空值計算的，比如你的真空泵抽速好，抽氣能力強就有可能克服微漏而使真空顯示較高的數(shù)值。

如何處理真空鍍膜的灰塵呢
1、設備使用的源材料要符合必要的純度要求。
2、設備樣品取出后要注意放置環(huán)境的清潔問題。
3、真空鍍膜一段時間后，真空室內(nèi)壁要清潔處理。
4、真空鍍膜清洗襯底材料，要做到嚴格合乎工藝要求。
5、真空鍍膜適當?shù)脑黾迎h(huán)境的濕度，有利于降低周圍環(huán)境的懸浮固體顆粒物。
6、工作人員在操作時需要戴手套、腳套等，要有的服裝。
由于灰塵對鍍膜效果會產(chǎn)生比較大的影響，因此為了避免在真空鍍膜設備中留下灰塵，應該在使用中注意以上幾點來盡量避免，除此也要注意經(jīng)常清洗，避免灰塵越積越多。

真空鍍膜機工藝在光學儀器中的運用大家了解的光學儀器有望遠鏡、顯微鏡、照相機、測距儀，以及平時生活用品中的鏡子、眼鏡、放大鏡等，它們都離不開鍍膜技能，鍍制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等幾種。
主要由真空鍍膜機室、真空抽氣機組及電柜（控制電柜、電子槍電柜）組成，其廣泛應用于微電子、光學成膜、民用裝飾、表面工程等領域。
光學鍍膜設備工作原理是在高真空狀態(tài)下、利用電子束對金屬或非金屬材料加熱到適當?shù)臏囟?，材料受熱后蒸發(fā)成蒸汽分子。它的平均自由程比蒸發(fā)源至被蒸發(fā)基片距離大，蒸發(fā)出來的蒸汽分子向四處直射，碰到基片就沉積在基片表面形成膜層。
維護與保養(yǎng)主要包換電子槍安裝與維護、光路的檢修與維護、設備的清洗與保養(yǎng)。