一般認(rèn)為,在電鍍C1、Zn、Cd、NSnPh時,滲入鋼件的容易殘留下來,而u、MoA、Ag、 AU、W等金屬鍍層具有低擴(kuò)散性和低溶解度 氫較少。在滿足產(chǎn)品技術(shù)條件要求的情況下,可采用不會造成滲氫的涂層,如機(jī)械鍍鋅可以,不會發(fā)生氫脆,耐蝕性高,附著力好,厚5~100um，成本低。

所謂去氫工藝就是在一定的溫度下國家金屬表面滲著氫的溶解度隨溫度升高而降低的基本原理，可以達(dá)到"或者絕大數(shù)的氫除去。進(jìn)行去氫的原因是，氫能夠?qū)λ鶟B著的金屬以及制品發(fā)生氫腐蝕也就是氫脆現(xiàn)象，造成金屬以及制品的金屬性消失使用壽命將會大大降低所以去氫。

溫度除氫烤箱選擇比實際使用溫度高10度即可。根據(jù)工藝要求，計算好實際要求的溫差，以烘烤的效果。舉例：如果使用溫度是150度，220度，360度，440度，按設(shè)計溫度500度做。4個溫度，如果是同一種產(chǎn)品。控制上選用可控硅。不同的產(chǎn)品，使用時低溫狀態(tài)下，溫差要稍微大一些。150度和220度的實際使用效果，沒有低溫烤箱好。使用中溫500度烤箱，150度烘烤溫差比低溫250度烤箱要高2~5度。