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小型真空磁控濺射鍍膜機(jī)晶振片膜厚監(jiān)測(cè)儀

更新時(shí)間:2023-03-22 17:27:56 [舉報(bào)]
離子濺射儀在掃描電鏡中應(yīng)用十分廣泛,通過(guò)向樣品表面噴鍍金、鉑、鈀及混合靶材等金屬消除不導(dǎo)電樣品的荷電現(xiàn)象,并提高觀測(cè)效率,另外可以使用噴碳附件對(duì)樣品進(jìn)行蒸碳,實(shí)現(xiàn)不導(dǎo)電樣品的能譜儀元素定性和半定量分析。
該產(chǎn)品為臺(tái)式磁控濺射鍍膜機(jī),能夠在非導(dǎo)電或?qū)щ姴涣嫉臉悠飞贤坎冀穑ˋu),鈀(Pd),鉑(Pt)和金/鈀(Au / Pd)的薄膜。 在較短時(shí)間內(nèi)即可形成具有細(xì)粒度的均勻薄膜,使樣品適用于掃描電子顯微鏡(SEM)分析。儀器結(jié)構(gòu)緊湊,全自動(dòng)控制,設(shè)計(jì)符合人體工程學(xué),所得結(jié)果一致,可重復(fù)性高。

產(chǎn)品特點(diǎn):
? 彩色觸摸屏:數(shù)據(jù)輸入簡(jiǎn)單快速
? 通過(guò)觸摸屏中直觀檢測(cè)數(shù)據(jù)和曲線;歷史頁(yè)面可顯示300個(gè)歷史涂層信息。
? 可控鍍膜速率,可得到更精細(xì)的晶粒結(jié)構(gòu)
? 可手動(dòng)或自動(dòng),根據(jù)時(shí)間或根據(jù)厚度進(jìn)行濺射
? 樣品臺(tái)更換簡(jiǎn)單:標(biāo)準(zhǔn)旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)或選用行星式旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)。標(biāo)準(zhǔn)樣品臺(tái)高度可調(diào)、可傾斜、可旋轉(zhuǎn);行星式旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)為多孔樣品帶來(lái)好的噴金效果。


磁控濺射優(yōu)點(diǎn)
(1)沉積速率快,沉積,適合工業(yè)生產(chǎn)大規(guī)模應(yīng)用;
(2)基片溫度低,適合塑料等不耐高溫的基材鍍膜;
(3)制備的薄膜純度高、致密性好、薄膜均勻性好、膜基結(jié)合力強(qiáng);
(4)可制備金屬、合金、氧化物等薄膜;

小型濺射儀
標(biāo)簽:膜厚監(jiān)測(cè)儀晶振片膜厚監(jiān)測(cè)儀
鄭州科創(chuàng)實(shí)驗(yàn)儀器設(shè)備有限公司
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  • 河南鄭州高新區(qū)西三環(huán)王屋路大學(xué)科技園
  • 15515545802

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